I laser a film sottile, con la loro eccellente qualità del raggio e l'elevata efficienza di conversione da ottico a ottico, sono stati sempre più ampiamente utilizzati in campi quali la produzione industriale e la ricerca scientifica di base. In particolare, la tecnologia laser ultraveloce a sezione sottile si è rivelata la soluzione migliore per realizzare impulsi di grande energia, ampiezza di impulsi ultrabrevi e potenza media elevata, che è anche conosciuta come il "gioiello della corona" dell'industria laser, ed è di grande importanza importanza per la produzione di fascia alta, la generazione di luce ultravioletta estrema e la scienza degli attosecondi.
Per molto tempo l'azienda tedesca Trafotek si è occupata esclusivamente della ricerca e della produzione di laser a film sottile e ha ottenuto un grande successo commerciale. Negli ultimi 4 anni, con il supporto del programma chiave nazionale di ricerca e sviluppo "Nuovi display e materiali elettronici strategici" guidato dal Prof. Ruan Shuangchen dell'Università di Tecnologia di Shenzhen, il team del progetto ha collaborato con lo Shanghai Laser Plasma Research Institute di l'Accademia cinese di ingegneria fisica, l'Università Normale di Jiangsu, Daqi Laser, l'Istituto di ricerca sui semiconduttori dell'Accademia cinese delle scienze, l'Istituto di ricerca sui semiconduttori di terza generazione di Jiangsu e altre unità per svolgere ricerca tecnica e produzione di laser a film sottile. Istituto di ricerca sui semiconduttori di terza generazione e altre unità per svolgere ricerca tecnica, superare la lavorazione di precisione di cristalli a film sottile, progettazione e confezionamento di sistemi di dissipatori di calore a cristalli, 48-sistema di pompaggio a corsa, cavità di risonanza di amplificazione rigenerativa ad alta stabilità e multi amplificazione a canale e altre tecnologie chiave, la prima in Cina a raggiungere un diametro > 20 mm Yb: imballaggio in cristalli a film sottile YAG, lo sviluppo di un sistema di pompaggio a corsa 48-di classe kilowatt.
Nel febbraio 2024, il gruppo ha realizzato un importante passo avanti nel campo dei laser a scaglie sottili ultraveloci della classe kilowatt in Cina: potenza media massima dell'uscita dell'impulso di 1,075 kW, larghezza dell'impulso di 7 ps, frequenza di ripetizione di 500-800kHz regolabile, energia dell'impulso massima di 2,1 mJ, qualità del raggio di M2<1.5, spot ellipticity of 0.96, for the China's attosecond light source, extreme UV lithography, new energy vehicles, 3C electronics and chip processing, aerospace and other high-end manufacturing industries, to provide advanced laser light source.
